學術研究單位UHV超高真空腔體
高科技真空系統環境製程的開發初期都需要在研究單位、實驗室進行許多真空測試，Htc日揚真空製造之客製化真空腔體裝配於多種研究實驗設備，為研究者提供了適當工具以進行各項高科技製程實驗。Htc日揚真空已建立的實績包括各種實驗用真空鍍膜腔體、太空腔模擬裝置、表面分析系統、光學量測系統及氣體檢測設備等，另外也承製了國內外同步輻射中心超高真空系統的腔體、真空鍍膜機、蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、離子鍍膜機和等離子化學沉積真空裝置學術研究。
歡迎聯繫我們，Htc日揚真空樂意為您提供UHV超高真空腔體解決方案。
產品案例
表面分析設備UHV超高真空腔體
表面分析超高真空系統設備, 提供樣本表面在分析過程時維持潔淨, 以利縱深分析。
表面分析設備CF300 Flange超高真空腔體
材質：304S.S.
表面處理：電解拋光
規格：CF 300 Flange圓柱形UHV超高真空腔體
洩漏率<8 x 10-11mbar.l/sec
工作壓力<1 x10-10 torr
RGA總壓<1 x10-9 torr時， 45amu以上物質總分壓<0.1%
